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Spin Coater ERK-AS

페이지 정보

작성자이알케이 댓글 0건 조회 171회 작성일 23-02-02 14:06

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제품 설명

제품 설명

Auto Spin Coating System

(ERK-AS Series)


반도체디스플레이 Photo 공정에서 Wafer or Glass에 Photo Resist를 

코팅하고 현상하며 Bake하기 위한 시스템으로 Cassette내 기판을 Robot으로 

이송하는 Full Auto System. 

 ▪ 다양한 Unit 구성

       - Spin Coater, Developer, HP, CP

       - Cassette Stage, Centering Unit

 ▪ 정밀 Wafer Transfer Robot 채용(Dual Finger)

 ▪ 안정되고 검증된 Scheduler 적용

   User Friendly Interface & Display

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Wafer Transfer Robot

+ High performance wafer transfer

+ Ceramic dual finger

+ Wafer mapping sensor

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Spin Unit

+ Coater, Developer.

+ 2 Chemical dispense arm

+ Auto chemical dispense

+ Spin motor : AC Servo motor

+ Spin chuck , Cup 

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Bake Unit

+ Hot Plate, Cool Plate

+ Proximity ball plate

+ Lift Pin Up/Down

+ PID temp control method


System Specification


ITEM

ERK-AS 150

ERK-AS 200

ERK-AS 300

Wafer Size

4”  ~ 6”

6” ~  8”

12”

Cassette Stage

Uni-cassette 2 unit (25 slot)

Spin units

Max 3 units [ Coater, Developer ]

Bake units

Max 9 units [ Adhesion, Hot plate, Cool plate ]

Spin Motor

AC Servo Motor,  Max ~ 5000rpm,

Max 3,000rpm

Wafer transfer

Magnetic-shield-type clean dual finger robot

Coater dispense

PR (Max 3 nozzle), EBR, BSR

Developer dispense

DEV (Max 2 Nozzle), Top Rinse, BSR

Operation Panel

15 “ Touch Monitor

Option

Chemical temp controller, T & H Controller, FFU



Spin Cleaning System (300mm wafer)


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Spin Cleaning System

용도 : Develop, Cleaning, Etching

+ Substrate Size

   =  300mm wafer

+ Spin Motor

   = Motor : AC Servo, Max 3000rpm

+ Load Port, Clean Robot System

+ Unit :  Centering, Etching, Developer, Cleaning, Bake Unit

+ Chemical dispense

   = Manual or Auto

   = Nozzle : Stream, Spray, Jet Etc

+ Chemical Auto Supply Module

 

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